真空狀態定義
在真空科學中，真空的含義是指在給定的空間內低於（yú）一個大氣壓力的氣體狀態。人們通常把這種稀薄的氣體狀態稱為真空狀況（kuàng）。這種特定（dìng）的真空狀（zhuàng）態與人（rén）類（lèi）賴以生（shēng）存的大氣在狀態相比較（jiào），主要（yào）有如下幾個基本特點：
（1）真空狀態下的氣體壓力低於一個大氣壓，因（yīn）此，處於地球表麵上的各種真空容器中，必將（jiāng）受到大氣壓力的作用，其壓強（qiáng）差的大小由容器內外的壓差（chà）值而定。由於作用在地球表麵上的一個大氣壓約為101325N/m2，因此當容器內壓（yā）力很小時，則容（róng）器所承受的大氣壓力可達到一個大氣（qì）壓。
（2）真空狀態下由於氣體稀薄，單位體積（jī）內的氣體分子數，即（jí）氣體（tǐ）的（de）分子密度小於大氣壓力的氣體分子密度。因此，分子之間、分子與其他質點（如（rú）電子、離子等）之間（jiān）以（yǐ）及分子與各種表麵（如器壁）之間相互碰（pèng）撞次數相對減少，使氣體的分子自由程變大。
工業真空概述：
工業上的真空指的是氣壓（yā）比（bǐ）一標準大氣壓小的（de）氣體空間，是指稀薄的氣體狀態，又可分為高真空、中真空和低真空，地球以及星球中間（jiān）的廣（guǎng）大太空就是真空。普通是用特製的抽氣機得到真空的。它的氣體稀薄（báo）程度用真（zhēn）空計測（cè）定（dìng），現在已能用分子抽氣機和擴散抽氣（qì）機得到0.0000000001大氣壓的高真空。真空在科學技術，電真空儀器，電子管和其他電子儀器方麵，都（dōu）有很大用途。
真空閥檢（jiǎn）漏技術：
一個理想的真空係統或者真空容器，應當是不存在任何漏孔，更不會產生任何漏（lòu）氣現象的。但是，就任何真空係統或真空閥（fá）來說，不漏的（de）現象是不可能的。特殊是在壓力低的情況下，隨著漏氣現象的影響不斷加劇，真空度達不到（dào）預定的工藝要求，是一個相稱普遍（biàn）的問題（tí）。因此，在檢測真空（kōng）閥或真空係統存在的漏氣部位、確定（dìng）漏孔的（de）大小、阻塞漏孔從而消除（chú）漏氣現象（xiàng），就成為真空技術（shù）工作者的一項重要（yào）工作。
所謂漏氣或稱實漏，它（tā）是指氣體通過真空係統（tǒng）上的漏孔或間隙，從高壓側流向低壓側的一種現象。真空（kōng）閥檢漏技術中的一些常用基（jī）本概念有九點（diǎn）。
其一稱為虛（xū）漏，它（tā）是相對於實漏而言（yán）的一種物理現象。這（zhè）種現象大都（dōu）是由（yóu）於材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸（zhēng）發或真空係統內存在死空間中氣體的（de）流出等（děng）原因而引起真空係統或真空閥（fá）中（zhōng）壓力升高檢漏的一種現象。真空閥檢漏的時（shí）候需要排除虛（xū）漏的影響。氣密性表（biǎo）征著真空係統或容器的壁對空氣不渴沉（chén）頭（tóu）程度的一種可能。其三是漏孔，所謂的（de）真空閥漏（lòu）孔是指真空容器上（shàng）存在形狀不定、其弱小的孔洞或（huò）間隙。大氣通過這種小孔或間隙進入（rù）真空係統或容器中（zhōng）。第四點是真空漏率，即為真空閥漏氣速率，它代表在指（zhǐ）定的單位時間內通過漏孔或間隙流入到真空係統或容器內的氣體量。其五是采用（yòng）某種檢漏方（fāng）法（fǎ）或真空儀器可能檢測出來的小漏（lòu）率。還有檢漏（lòu）敏捷度，或者可稱之為有效敏捷度。對於它（tā）的相應時間來說，從真空閥檢漏方法開始實（shí）施（shī）到指示方法或真空儀器（qì）指示值上升到其大值的時所需要的時間。而消除時間是指從檢漏（lòu）方法停止到指示方法或儀器指示值下降到停止值的所（suǒ）需時間。後（hòu）就是由灰塵（chén）或液體所造成的漏孔阻塞，這些阻塞常常是指由於檢漏作業操作不當而（ér）導致發生的（de）一種暫時現象，真空閥檢漏時好像不漏氣（qì），但一經排氣又會浮現漏氣的一種現象（xiàng），我們把（bǎ）它稱為漏孔的阻塞現象。